1. EDI操作電壓過(guò)高，電流無(wú)法調(diào)節(jié)增大：進(jìn)水硬度過(guò)高，EDI內(nèi)部結(jié)垢、EDI來(lái)水壓力過(guò)高等問(wèn)題，使EDI在運(yùn)行過(guò)程中經(jīng)常出現(xiàn)水錘現(xiàn)象。2. 如果EDI流量過(guò)低，水質(zhì)會(huì)惡化，壓差會(huì)增大：進(jìn)水的余氯、硬度和硅含量會(huì)過(guò)高。入水前沒有安全過(guò)濾器。3. EDI進(jìn)水正常，壓力正常，但水質(zhì)過(guò)低，樹脂的功能降低，大電流可再生。

如果原水含鹽量高，建議使用雙極反滲透設(shè)備作為預(yù)脫鹽，其電導(dǎo)率最好保持在1—3μS/cm。進(jìn)水CO2含量高，建議使用脫氣膜或脫氣塔去除CO2。如果pH值偏離中性太大，則用pH值調(diào)節(jié)，使EDI進(jìn)水的pH值保持在7—8。水中的微小離子和顆粒會(huì)積聚在EDI模塊的電極和離子交換樹脂上，降低去離子效率，導(dǎo)致電阻率下降。如果EDI設(shè)備中使用的脫鹽樹脂達(dá)到其吸附能力的極限，樹脂將不再能有效地去除離子，從而降低水的純度。

?超純水制備設(shè)備中的水箱和鹽霧池是兩個(gè)不同的部件，在設(shè)備中具有不同的功能。鹽霧腐蝕檢測(cè)箱主要是利用鹽霧對(duì)原材料及其安全防護(hù)層的鹽霧腐蝕性能進(jìn)行檢測(cè)。霧蝕的能力。這里所說(shuō)的鹽霧主要是以純凈水或雙蒸水加一定量的氧化鈉溶液對(duì)噴霧設(shè)備或電子元器件進(jìn)行試驗(yàn)并模擬其抗鹽霧侵蝕的能力。

鍋爐水的pH值應(yīng)在一定范圍內(nèi)，以防止腐蝕或結(jié)垢問(wèn)題。典型的pH范圍在8.5和9.2之間。高含氧量會(huì)導(dǎo)致鍋爐水腐蝕。工業(yè)鍋爐經(jīng)常采取措施減少氧氣的存在。它的堿度和酸度水平需要控制，以保持水的中性或堿性，以減少腐蝕問(wèn)題。